[VIP第1年] 指数:3
微电子材料所指的材料范围很广，这是因为微电子设备很复杂，包含大量单个组件。例如，微处理器的失效分析可能会要求金相工作者正好从多层镀层(例如氧化物、聚合物、易延展的金属如铜或铝、难熔金属如钨或钛-钨)的硅片的横截面切割。另外，包装材料也可能含有机械性能各异的材料如I氧化铝或焊料。这些焊料有可能含有高达97%的铅。可以想象将这么多性能各异的材料整合到一个单一的设备里，并开发出一个适用于所有材料的制备程序的可能性就不存在，所以我们必须将注意力集中在几种材料上，去开发我们所要关注材料的试样制备程序。硅对硅胶的化学机械抛光反应良好，但与氧化铝的反应较差。氧化铝悬浮液可以用于终的抛光，这就又返回到以前提到的试样制备理论了。当硅模与铅框材料，例如镀镍的铜，铅框和模具材料被制备时。此时，我们不用考虑硅的表面光洁度，相反我们要确保镍没有出现挂灰以利于辨别铅框材料的真实组织。如何实现抛光液的高性能与低成本兼顾？上海抛光液品牌
阻尼抛光布被推荐用于特别要求边缘保持的试样。纯铝和有些合金容易嵌入细的金刚石颗粒，特别当使用悬浮液时更明显。如果发生嵌入，请将金刚石悬浮液改成金刚石抛光膏，这样将减少嵌入。特纯和商业纯可以增加一个短时间的震动抛光(与步骤使用相同的抛光介质)，虽然震动抛光通常是不要求的，但却可以提高划痕的消除。对铝合金来讲，氧化铝悬浮液被发现是非常有效的终抛光介质。然而，标准的煅烧氧化铝抛光介质是不适合铝合金的。人工合成无绒抛光布配合硅胶用于抛光产生的浮雕，要比利用短绒或中绒抛光布产生的浮雕浅的多，但无绒抛光布也许无法消除抛光划痕。对非常纯的铝合金，随后可增加震动抛光以提高表面光洁度，制备完全无划痕的表面是非常困难的事情。对许多铝合金，理想的抛光结果可以通过四步制备程序获得，尽量保留铝合金中全部的金属间化合物微粒和并将浮雕小化。上海斯特尔抛光液如何控制抛光液的用量？
当铅焊料材料成为微电子包装材料时，我们经常把它们分为两个类别。首先是共晶或近共晶焊料，虽然它们具有延展性，但表40列出的制备方法却非常适用于它们(在进行3μm抛光步骤时，金刚石抛光膏能获得比较好的表面。这是由于抛光膏含蜡，所以可以减少延展性材料在制备时金刚石的嵌入。少量的水不会破坏蜡基体的稳定，这样内含的金刚石仍然能保留起作用)。比较有效的制备技术应该是研磨-抛光-研磨-抛光的一种程序。在这样的程序中，研磨之后的抛光应采用有绒的抛光布，这将把嵌入到基体材料里的研磨颗粒去除掉。之后再次研磨，把试样再次磨平。一直持续到 终抛光，获得需要的结果。
钛的金相制备，钛，是一种非常软的易延展的金属，在研磨和切割过程中容易生成机械孪晶。商业纯钛的制备是非常困难的，其合金的制备相对容易一些。有些作者说钛合金不能用酚醛树脂镶嵌，因为钛合金可能会从树脂里吸氢。另外，镶嵌样的热量可能导致氢化物进入溶液。冷镶嵌时，如果聚合放热反应产生热量太多时，也会发生。如果氢化物是主要考虑的内容，那么试样应采取聚合放热反应产生热量少的冷镶嵌树脂(固化时间长产生的热量少)。钛很难切割，研磨抛光速率低。下面介绍针对钛和钛合金的，在抛光步骤中添加侵蚀抛光剂的制备程序，以获得的结果。本程序特别适用商业纯钛，主要因其非常难于制备出无变形的用于彩色腐蚀、热染色或偏振光检查晶格结构的表面。侵蚀抛光剂的使用有数量要求。简单的是将10mL双氧水(30%浓度–避免身体接触)和50mL硅胶混合。有些金相工作者甚至加少量的Kroll’s腐蚀剂或少量的硝酸和氢氟酸(避免身体接触)，这些后添加的也许会导致凝胶。这些后添加的将提高双氧水的反应能力(较安全的3%浓度是没有效果的)。钛的金相制备，赋耘有非常成熟的操作过程，我们砂纸，抛光布，金刚石悬浮抛光液，二氧化硅抛光液完全符合满足客户的需求。如何实现金相抛光液的高性能与低成本兼顾？
有人问二氧化硅能否做成悬浮液？自然界存在的二氧化硅，几乎都以晶体形态存在，其中以石英居多。单纯的二氧化硅晶体，即使粉碎到，在水中都不能形成悬浮液，但添加适量的表面活性剂（如十二烷基苯磺酸盐），也能形成悬浮液，但维持的时间较短，根本无法与黏土矿物悬浮液相比。如果能粉碎到纳米级，已经完全破坏了它的就很容易形成悬浮液了。赋耘的悬浮液就是做到纳米级的粉碎，让金相制样达到一个好的效果。究了聚丙烯酸铵(NH4PAA)对纳米SiO2粉体表面电动特性及其悬浮液稳定性的影响.结果表明,NH4PAA在SiO2表面吸附,提高了颗粒间的排斥势能,改善了悬浮液的稳定性。抛光分分为机械抛光、电解抛光、化学抛光，各有各的优势，各有各的用途，选择合适的就能少走弯路。研磨抛光液的组成成分。上海斯特尔抛光液
不同材质的工件在使用抛光液时有哪些特殊的操作注意事项？上海抛光液品牌
铍的金相制样制备，铍也是一种对操作者身体健康有损害的难制备的金属。只有那些熟悉铍的毒物学并配备防护装备的人员才可以制备这种金属。研磨灰尘有很大的毒性。湿法切割可以预防空气污染，但其微粒必须妥当处理。同镁一样，铍容易切割或研磨损伤，产生机械峦晶。载荷要求低。虽然有些作者声称不可以用水，即使在研磨过程也是如此，但另有报告说用水没问题。 步骤，将一份双氧水(30%浓度–避免身体接触)与五份硅胶混合。草酸溶液(5%浓度)和氧化铝抛光液也可以用于侵蚀抛光。为了获得偏振光感应，应增加比例1-10的双氧水和硅胶悬浮抛光液的震动抛光。上海抛光液品牌
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